這篇主要介紹超高真空下的真空泵（Ultra High Vacuum ）： 濺射離子泵 NEG 泵 及 鈦升華泵 Cryopumps
UHV:Ultra-high Vacuum,是指真空度小于1.0*10E-7Pa (1.0*10E-9mbar),主要用于表面分析科技中，如XPS AES TPD MBE 等
上圖是世界上首臺(tái)離子泵泵-由瓦里安發(fā)明 1957年
離子泵的名詞解釋及工作原理：
Sputter Ion Pump: 濺射離子泵是靠電磁場(chǎng)的作用產(chǎn)生潘寧放電而使氣體分子電離，利用電離產(chǎn)生的離子高速轟擊陰極鈦板引起
鈦原子濺射，連續(xù)制造活性吸氣膜使電離了的氣體分子收附于其中達(dá)到抽氣效果的真空泵。
Titanium Sublimation Pump 鈦升華泵
主要依靠電子轟擊或通電加熱使吸氣材料升溫，達(dá)1200～1500℃時(shí)它將不斷升華并沉積在水冷泵壁內(nèi)表面，形成新鮮的活性
膜層而不斷地吸收和“掩埋”氣體分子。對(duì)活性氣體主要是形成固化化合物，對(duì)惰性氣體主要是“掩埋”。
NEG 泵： Non-Evaporable Getter
